Objectiu de placa de titani

Titanium Plate Target és una peça plana i sòlida de metall de titani, que s'utilitza sovint en diverses aplicacions industrials i científiques, especialment en processos de pulverització. Serveix com a material objectiu a partir del qual els àtoms de titani es dipositen sobre un substrat en processos com la deposició o el recobriment de pel·lícula fina.

Titanium Plate Target és una peça sòlida de titani (o aliatge de titani) d'alta puresa-mecanitzada en una forma plana, semblant a una placa-, que s'utilitza com a material d'origen en un procés de deposició física de vapor (PVD). La seva funció principal és erosionar-se físicament o "sputtered" perquè els seus àtoms puguin ser transportats i dipositats com una pel·lícula fina o recobriment sobre un substrat (l'objecte que s'està recobrint).

És un component consumible en sistemes de recobriment industrials i d'investigació.

1.Material: titani d'alta-puresa (sovint Ti-6Al{-4V o titani comercialment pur, Ti{-CP), que ofereix una excel·lent resistència a la corrosió, una alta relació resistència/pes i biocompatibilitat, el que el fa adequat per a una varietat d'aplicacions, com ara usos aeroespacials, mèdics i industrials.

2.Gruix: El gruix de l'objectiu de la placa de titani pot variar molt segons l'aplicació, normalment oscil·lant entre 0,5 mm i 10 mm o més. En aplicacions específiques, com ara objectius de sputtering per a processos de deposició, el gruix pot variar des d'uns pocs mil·límetres fins a diversos centímetres.

3.Dimensions (amplada x llargada): Les dianes de plaques de titani poden tenir diferents mides, depenent del procés de fabricació i l'ús. Les mides habituals van des de petites (p. ex., 50 mm x 50 mm) fins a plaques més grans (p. ex., 1000 mm x 500 mm o més). Les dimensions exactes s'adaptaran a l'aplicació específica, ja sigui per a la catòdica, la soldadura o altres processos.

4.Puresa: Els objectius de titani sovint vénen en diversos graus de puresa. El titani comercialment pur (grau 1, 2, 3 o 4) és comú, tot i que es poden utilitzar graus de puresa més elevats (com ara l'aliatge Ti-6Al-4V o fins i tot formes de puresa superior) segons els requisits específics. L'alta puresa garanteix una contaminació mínima en processos com ara la polsadora.

5.Densitat: La densitat dels objectius de plaques de titani sol ser d'uns 4,43 g/cm³ (per a titani pur). La densitat pot variar lleugerament segons l'aliatge específic.

6.Acabat superficial: Les plaques de titani es poden fabricar amb diversos acabats superficials en funció de l'ús previst:

7.Superfícies rugoses o polides: Sovint, els objectius de pulverització catódica tenen una superfície fina o lleugerament texturada per permetre un rendiment òptim de pulverització.

8.Acabats recoits o laminats-en fred: Depenent de l'aplicació, les plaques de titani es poden sotmetre a un recuit o{0}}laminació en fred per aconseguir les propietats mecàniques i la textura superficial desitjades.

9.Forma: Tot i que la forma més comuna és una placa rectangular o quadrada, les dianes de titani també es poden personalitzar en formes circulars o altres segons l'equip de deposició o l'aplicació (p.

10.Propietats mecàniques:

11.Puresa en aplicacions de pulverització: Per als objectius de pols que s'utilitzen en processos de deposició de pel·lícula-fina, l'objectiu de titani sovint s'especifica amb una puresa del 99,5% al ​​99,99% per evitar la contaminació durant la deposició de la pel·lícula.

12.Resistència a la temperatura: el titani té un excel·lent rendiment a altes-temperaturas, amb la capacitat de mantenir la seva resistència a temperatures elevades, el que el fa adequat per al seu ús en entorns d'alta-temperatura, com ara la fabricació aeroespacial i electrònica.

Etiquetes populars: Objectiu de placa de titani, fabricants, proveïdors, fàbrica de plaques de titani de la Xina